氣相沉積（CVD）爐
先進陶瓷
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一、設備用途：
用做石墨或碳碳表面的碳化硅涂層、碳碳復合涂層。
用途廣泛 如：
1 碳碳復合涂層：光伏晶體爐的熱場材料
2 石墨涂層：LED藍寶石襯底MOCVD的石墨托盤
二、設備特點：
1 立式結構，爐殼用耐腐蝕材料制成。
2 獨特的內罩進排氣結構，熱場溫度均勻性好。
3 氣氛控制精確，真空系統配有過濾器，可選配尾氣處理系統。
4 主要電器元件采用施耐德及歐姆龍品牌，性能穩定、可靠。
5 配備出、裝料料車，方便操作及出裝料，提高工作效率。
三、主要技術參數：
| No. | 型號 | 工作區尺寸（?XH）mm | 高溫度 (℃) | 真空度 (Pa) | 壓升率 (Pa/h) | 溫度均勻性 (℃) | 功率 （KW） |
| 1 | ZT-60-15 | 300X500 | 1500 | 1-100 | 0.67 | ±10 | 60 |
| 2 | ZT-145-15 | 600X800 | 1500 | 1-100 | 0.67 | ±10 | 145 |
| 3 | ZT-220-15 | 800X1000 | 1500 | 1-100 | 0.67 | ±15 | 220 |
| 4 | ZT-270-15 | 1000X1500 | 1500 | 1-100 | 0.67 | ±20 | 275 |
| 5 | ZT-550-15 | 1500X2000 | 1500 | 1-100 | 0.67 | ±20 | 550 |
爐膛尺寸可按要求定做
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